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箱式炉的工艺库的设计与零件生产紧密结合，工艺中包含零件处理前、处理时和处理后的各项记录信息，便于监控和查阅。在零件处理过程中，提供在线修改工艺的功能，并可在自动控制过程中加入人为控制因素，使得对零件处理结果的控制更加灵活。
箱式炉由于炉口、炉门密封不严，散热量较大，其温度要比炉膛中心温度低，如果被加热工件的温差范围要求控制在较小范围，则零件加热区域就势必要缩小，相应的炉膛有效面积也要缩小，炉子不能满负荷工作，造成能源和工时的浪费，产品的单耗也随之增加，所以尽量扩大箱式炉均温区。
硅钼棒通常可使用的炉体温度为1600℃-1750℃，广泛应用于冶金、玻璃、陶瓷、磁性材料、耐火材料、晶体、电子元器件、窑炉制造等领域、是产品高温烧结时的理想发热元件。
硅钼棒在高温氧化气氛下，表面生成一层石英保护层防止硅钼棒继续氧化。当元件温度大于1700℃时，石英保护层熔融，元件在氧化气氛下，继续使用，石英保护层重新生成。硅钼棒不宜在400-700℃范围内长期使用，否则元件会因低温的强烈氧化作用而粉化。
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