关键词 |
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面向地区 |
全国 |
测量对象 |
硅含量 |
电源电压 |
220v |
类型 |
金属元素分析仪器 |
对样品制样的要求
1、分析样品成致密的块状或较厚片状固体，相对均匀，有代表性，不能有裂纹、夹杂、缩孔等物理缺陷。
2、每次检测前都要重新制样，试样表面平整。当试样放在电极激发台上时, 不能有漏气现象。
3、待测样品表面不能沾污。
4、分析样品与控制标样操作一致。磨样纹路粗细应该保持一致,不能有交又纹出现,磨样时用力应该均匀,用力不要过大,用力太大会导致试样磨样过热,直接导致试样表面出现氧化的现象。
5、试样厚度不能太薄。如果试样的厚度比较薄, 其表面不平整, 也很很容易被烧, 并且激发时容易被击穿, 这样也会在一定程度上影响薄样测量结果。
由于氧对200nm以下短波光谱有强烈的吸收，使得分析谱线的强度下降，特别是对谱线在紫外短波区的C、S、P等非金属元素，导致其检测结果偏低。氩气不纯易引起扩散放电，其激发点中心与外界没有分界线呈白色或黑白色。因此，氩气纯度是影响检测结果重要的因素。
氩气流量和压力大小决定了氩气对放电表面的冲击能力，若冲击能力过低，不足以将试样激发过程中产生的气体和形成的化合物冲掉，会导致污物在电极周围聚集，抑制试样的继续激发，使放电不稳定，造成扩散放电，分析重复性差；若冲击能力过大，易使火花产生跳动，同样造成放电不稳定，影响检测结果同时造成氩气的浪费。
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