安徽工业卡尔蔡司电子显微镜

Gemini 物镜的设计结合了静电场与磁场， 在提升光学性能的同时将它们对样品的影 响降至低。因此，即便是要求苛刻的样 品 —— 如磁性材料，也能进行成像。 在 Gemini 镜筒设计理念中， Inlens 用二次 电子( SE ) 和背散射电子( BSE ) 探测器来 确保的信号检测。

Gemini 2 型电子光学镜筒让 GeminiSEM 460 成为高束流下获取高分辨率成像和快速 分析的理想之选。另外，它还集上一代 Gemini 光学系统的所有优势于一身。例如， 确保了大视野范围内的无畸变 EBSD 分析和 高分辨率成像的物镜无漏磁设计。
因此您也能够在不影响电子光学性能的前 提下倾斜样品， 甚至还能轻松完成磁性样 品成像。

Gemini 3 型镜筒介绍
Gemini 3 型镜筒是专为表面灵敏成像领域 的苛刻任务而设计，它确保成像在 1 kV 至 30 kV 的所有工作条件下都能达到高分 辨率。它由两个协同工作的组件组成，即 Nano-twin 物镜和智能自动光路调节—— 它 们组成一个全新的电子光学引擎。 BSE 的优 势也可以为您提供良好的图像衬度，让您可 以从样品中提取出尽可能多的信息。

智能自动光路调节( Smart Autopilot)
与 Nano-twin 物镜相结合，新的智能自动光 路调节让您受益于以下特点：
• 通过聚光镜优化所有工作条件下的电子束 会聚角，在每种工作能量下都能获得出色 的分辨率。

智能自动光路调节优化了通过镜筒的电子轨 迹，从而确保了在每个加速电压下尽可能高 的分辨率。它还引入了新的自动功能，在整 个放大倍数范围内(从 1 倍到 2,000,000 倍) 实现无缝对准自由切换，并将观察视野增 加了 10 倍，从而可以在单幅图像中完整成 像 13 厘米的物体。GeminiSEM 560 保持了 市场上尺寸达 32k × 24k 的超大图像存储像素， 在大视野无畸变拼接成像方面优势。

全套探测系统： 根据出射能量和出射角选 择性地探测样品的电子
GeminiSEM 系列的全套探测系统有大量不同 的探测器可供选配。通过组合 EsB (能量选 择背散射) 探测器、 Inlens 二次电子探测器 及 AsB (角度选择背散射) 探测器获取样品 材料、表面形貌或结晶度的信息。入射电子 与样品作用后可产生二次电子( SE ) 和背散 射电子( BSE )。从纳米级样品表面逃逸出的、 能量小于 50 eV 的二次电子可用来表征样 品的表面形貌。这些二次电子可通过特设 计的电子束推进器向后加速进入镜筒，并经 Gemini 物镜投射到环形 Inlens 二次电子探测 器里。 GeminiSEM 可根据样品的表面条件在 宽角度范围内探测二次电子。

大部分的背 散射电子能够穿过 Inlens SE 探测器，并被 EsB 探测器收集。此外， Inlens EsB 探测器 还可有选择地收集不同能量的背散射电子。 如果出射角大于 15 度， 则 BSE 无法进入镜 筒，但会被 AsB (角度选择背散射) 或可 抽插式 aBSD 探测器探测到。aBSD 探测器 能够提供样品的成分衬度、形貌和 3D 表面 信息。样品室背散射电子探测器( BSD )和 扫描透射电子探测器可以在低加速电压下 拥有更率，且能实现超速成像。

专为日常检测和分析应用而设计，蔡司 EVO 拥有的操作 设计理念，无论是经验丰富的显微技术人员还是不具备扫描 显微镜知识的工程师，均可轻松上手。它能够提供出色 的数据，特别适合于后续检测中无法涂覆导电层的非
导电零部件。

产品应用领域
■ 金属 / 高分子 / 陶瓷材料
表面粗糙度分析, 高分辨金相分析, 摩擦磨损分析, 断口分析, 腐蚀研究, 原位分析。
■ 微纳加工
结构分析,表面粗糙度分析, 高深宽比结构表征,膜厚测量。
■ 半导体和微电子
表面缺陷定位和分析、发光缺陷观察,表面粗糙度分析,膜厚测量等。
■ 医疗器械检测
表面粗糙度分析,金相分析,膜厚测量,微生物观察等。
■ 生物材料和医学
金属表面细胞生长研究, 微生物金属腐蚀研究, 植入物表面细菌生长表征等。