米水性氧化铝浆料分散机设备

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米水性氧化铝浆料分散机设备

基本介绍
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性能特点
氧化铝具有硬度高、化学稳定性好等优点，已被广泛应用在陶瓷、无机膜、研磨抛光材料等领域。用作分析试剂、有机溶剂的脱水、吸附剂、催化剂、冶炼铝的原料、耐火材料。

　　二、氧化铝的分散问题

　　近年来，已超细氧化铝粉体研制功能陶瓷材料和新型功能复合材料受到人们的广泛关注。但超细氧化铝粉体比表面积大，表面活性高，单个超细颗粒往往处于不稳定状态，颗粒之间因为相互吸引而团聚，易于失去超细粉体特有的性能，因此超细氧化铝粉体的分散，是超细氧化铝粉体走向实用化的关键。

技术参数
      在水溶液中，氧化铝浆料中的亚微米机微粒由于受静电引力等作用发生团聚，出现絮凝，分层等现象，破坏浆料的分散稳定性。为此浆料的分散稳定性成为人们研究的。影响稳定性的因素有很多，如:分散剂种类及用量、分散设备的选择、粉体的粒度及表面性质、PH值、温度等。



　　当物料工艺确定后，影响分散稳定性的因素就是浆料中粒子的半径，半径越小，沉降越慢、稳定性越高。这种情况下要提高分散稳定性就选用的分散设备，来获得更好的物料粒径，提高分散的均匀性，推荐CMSD2000系列研磨分散机，特的结构，胶体磨+分散机一体化设备，14000rpm转速，效果好、。

　　四、氧化铝水性浆料分散设备推荐

　　结合多家化工企业案例，我司推荐CMSD2000系列研磨式速分散机进行氧化铝的研磨和分散，一般可获得超细的物料粒径，一般为1μm左右。当然还要看具体的物料工艺，以及原始状态。

　　五、IKN氧化铝水性浆料分散机结构

使用说明
上海依肯分散机

级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

 
 
设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件： PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理：抛光、耐磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMSD 2000/4

300

14,000

41

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10,500

41

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7,200

41

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4,900

41

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2,850

41

90

DN150/DN125

CMSD2000/50

60000

1,100

41

160

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。
3 如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，提供准确的参数，以便选型和定制。
采购须知
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