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高校实验室等离子模块等离子体化学气相沉积

更新时间：2023-03-15 20:02:00 信息编号：s42sngcpo97855
高校实验室等离子模块等离子体化学气相沉积
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高校实验室等离子模块等离子体化学气相沉积

高校实验室等离子模块
等离子体化学气相沉积

等离子体化学气相沉积（ plasma chemical vapor deposition）简称PCVD，是一种用等离子体激活反应气体,促进在基体表面或近表面空间进行化学反应,生成固态膜的技术。等离子体化学气相沉积技术的基本原理是在高频或直流电场作用下，源气体电离形成等离子体，利用低温等离子体作为能量源，通入适量的反应气体，利用等离子体放电，使反应气体激活并实现化学气相沉积的技术。
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