原子层沉积镀膜
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更新时间：2019-11-13 16:53:54 信息编号：728v7b54511df

￥238000

≥ 1台

价格：
238000.00 元
产地：
北京
品牌：
其它
关键词：
镀膜机,原子层沉积镀膜机

于磊

15611171559

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详情介绍

原子层沉积镀膜

产品别名	热壁型原子层沉积镀膜,原子层沉积镀膜机	面向地区	全国	产地	北京
品牌	其它	材料	金属	颜色	金属色

一、设备概述:
T-ALD原子层沉积系统是为科研和工业小型化量产用户而设计的多片沉积系统。该系统电气完全符合CE标准，广泛应用于微电子、纳米材料、光学薄膜、太阳能电池等领域。

二、产品优势:
的软件控制系统：系统集工艺配方、参数设置、权限设定、互锁报警、状态监控等功能于一体。

三、技术指标:
基片尺寸 8英寸及以下尺寸
基片加热温度室温~300℃
前驱体源路数标准3路前驱体管路，可选配
前驱体管路温度室温～200℃，控制精度±0.1℃
源瓶加热温度室温～200℃，控制精度±0.1℃
ALD阀 Swagelok快速高温ALD阀
本底真空 <5x10-3Torr，进口防腐泵（标配国产机械泵）
载气系统 N2或者Ar
长模式连续和停留沉积模式任意选择
控制系统 PLC+触摸屏或者显示器
电源 50-60Hz，220V/20A交流电源
沉积非均匀性非均匀性<±1%
设备尺寸 600mm x 600mm x 1100mm

四、可沉积薄膜种类:
单质：Co, Cu, Ta, Ti, W, Ge, Pt, Ru, Ni, Fe…
氮化物：TiN, SiN, AlN, TaN, ZrN, HfN, WN …
氧化物：TiO2, HfO2, SiO2, ZnO, ZrO2, Al2O3, La2O3, SnO2…
其它化合物：GaAs, AlP, InP, GaP, InAs, LaHfxOy, SrTiO3,SrTaO6…

五、ALD应用实例:
存储容性电介质，铜互连中高深宽比扩散阻挡层，OLED无针孔钝化层，MEMS的高均匀镀膜，纳米多孔结构镀膜，特种光纤掺杂，太阳能电池，平板显示器，光学薄膜，其它各类特殊结构纳米薄膜。

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