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美国Futurrex光刻胶 |
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/ 欢迎来到 Futurrex - 生产力工具 / 产品 / 负性光刻胶 / 负性蚀刻抗蚀剂
| 负性抗蚀剂 - 蚀刻掩蔽 | |
| RIE/离子铣削高温抗蚀剂电阻器NR7-250PNR7-1000PNR7-1500PNR7-3000PNR7-6000PNR5-8000厚度0.2µm - 0.6µm0.7µm - 2.1µm1.1µm - 3.1µm2.1µm - 6.3µm5.0µm - 12.2µm5.8µm - 100µm耐温性 = 150°C。在某些条件下，Futurrex NR5 和 NR7 光刻胶在 RIE 中的选择性比商用正性光刻胶高出 25-33%。在加工温度 < 120°C 时，NR5 和 NR7 系列光刻胶可在 25°C 下剥离。 | 湿法蚀刻增强附着力电阻NR9-250PNR9-1000PNR9-1500PNR9-3000PNR9-6000PNR9-8000厚度0.2µm - 0.6µm0.7µm - 2.1µm1.1µm - 3.1µm2.1µm - 6.3µm5.0µm - 12.2µm6.0µm - 100.0µm耐温性 = 100°C。NR9系列光刻胶具有增强的附着力，在 25°C 时易于剥离。 |
应用
在 RIE 处理和湿法蚀刻中替代正性光刻胶
特性
厚度范围：<0.1 - 120.0 µm
对波长短于 380nm 的敏感度
特征
对表面拓扑的线宽控制
直侧壁，适合任何薄膜厚度
一次旋涂即可涂出 100 µm 厚的薄膜
由于采用 150°C 软烘烤，烘烤时间更短（对于厚膜至关重要）
的感光速度，可提高曝光量
有利于提高 RIE 的功率密度，从而提高蚀刻速率和蚀刻产量
无需使用粘合促进剂
主营业务：显影液、漂洗液、光刻胶、聚酰亚胺、冰箱储存、化学试剂、国产试剂、半导体材料、电子材料、锐材表面活性剂
代理美国PTI公司杂质颗粒尺寸分析试验、检测设备及各种试验粉尘。
代理德国DMT公司的符合IEC 60312标准的试验粉尘。 同时，公司还代理进口日本JIS标准试验粉尘。 满足国内汽车零部件、光纤，电子等行业企业的实验室以及一些立检测机构对于进口试验粉尘的需求。
厦门本地NR9-6000PY热销信息
