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产品名称：Microchem SU-8 2000.5 负性光刻胶
产品型号：Microchem SU-8 2000.5
产品说明书：点击下载SU-8 2000.5 负性光刻胶说明书
美国Microchem SU-8 2000系列是高对比度、环氧型负性光刻胶，为微加工和微电子领域的应用而研发，可以满足较高的厚度以及对化学和热稳定性高的要求，多年来一直被 MEMS 制造商广泛使用。SU-8 2000采用了改进的配方，单次涂布工艺可实现0.5至>200um的胶膜厚度。SU-8光刻胶具有的成像特性，由于其在365-400nm波长范围内吸收度很低（推荐选用Cchip-0019型光刻机），胶层可以获得均匀一致的曝光量，因此能够加工近似垂直侧壁和高深宽比的厚膜结构。
在微流控芯片加工中，SU-8光刻胶主要用于软光刻工艺，在硅片上加工SU-8光刻胶结构作为模具，用快速模塑法倒模获得PDMS微流控芯片。
SU-8 2000和3000系列光刻胶，根据粘度的不同，划分为以下型号。不同型号，厂家给出的匀胶厚度范围如下表。用户可根据所需旋涂的胶膜的厚度选取对应的型号，下表红色标记的型号是常用的型号。
主营业务：显影液、漂洗液、光刻胶、聚酰亚胺、冰箱储存、化学试剂、国产试剂、半导体材料、电子材料、锐材表面活性剂
代理美国PTI公司杂质颗粒尺寸分析试验、检测设备及各种试验粉尘。
代理德国DMT公司的符合IEC 60312标准的试验粉尘。 同时，公司还代理进口日本JIS标准试验粉尘。 满足国内汽车零部件、光纤，电子等行业企业的实验室以及一些立检测机构对于进口试验粉尘的需求。
厦门本地负性光刻胶热销信息
