产品别名 |
光谱仪,无卤分析仪,ROHS检测仪,合金成份分析仪 |
面向地区 |
主要技术参数
项目
M4
检测基体
多基体
光学系统
帕型-龙格结构
光室结构
充氩循环方式
波长范围
165-580nm（可扩展）
光栅焦距
300mm
光栅刻线
3600条/mm
探 测 器
多CMOS检测器
光源类型
可编程脉冲数字光源
仪器尺寸
714*558*270
仪器重量
40Kg
主要技术参数：光学系统：帕型）-龙格罗兰圆全谱真空型光学系统；
波长范围：170nm~580nm
焦距：400mm
探测器：CCD阵列
光源类型：数字光源，高能预燃技术（HEPS）
放电频率：100-1000Hz
放电电流：400A
工作电源：220VAC 50/60Hz
仪器尺寸：720*860*500
仪器重量：约100kg（不含真空系统）
检测时间：依据样品类型而定，一般25S左右
电极：钨材喷射电
光学恒温：34℃± 0.3℃
氩气要求：99.999％
氩气进口压力：0.5MPa
氩气流量：激发流量约3.5L/min
工作温度：10℃～35℃
工作湿度：20％～85％
分析间隙：真空软件自动控制、监测
性能的光学系统
帕邢-龙格结构凹面光栅，全谱覆盖，满足客户对全元素检测的需求。
直射式光学技术及采用MgF材料制作的光学器件，紫外区域的性能。
高分辩率多CMOS读出系统，较低的暗电流，较好的检出限，较高的稳定性，较强的灵敏度，满足N的分析要求。
智能数字激发光源
全数字化智能复合光源DDD技术，带来分析性能。
紧凑的设计及半导体控制技术，使得光源具有较好的稳定性、更强的可靠性。
高能预燃技术（HEPS),激发参数调整，充分满足不同基体、不同样品以及不同分析元素的激发要求。
智能样品激发台设计
激发台直接将激发光导入光学系统
开放式样品台，满足大样品测试要求。
变换电极可对小样品及复杂几何形状样品分析有较好的性能
视频识别技术，确保样品台激发安全，可监测样品台的全景。
金属材料领域的全谱直读光谱仪
检测基体：铁基、铜基、铝基、镍基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基。
全新立式全谱光谱采用标准的设计和制造工艺技术，采用全数字技术，替代庞大的光电倍增管（ＰＭＴ）模拟技术，采用真空光学室设计及全数字激发光源、ＣＣＤ检测器，高速数据读出系统，使仪器具有较高的性能、较低的检出线、长期的稳定性和重复性。适用于金属制造业、加工业及金属冶炼业用于质量监控、材料牌号识别、材料研究和开发的主要设备之一。
