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ICP刻蚀机

更新时间：2020-09-07 16:44:02 信息编号：115378579
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ICP刻蚀,RIE刻蚀,IBE刻蚀,等离子刻蚀
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3v

ICP刻蚀机

法国ICP刻蚀机，RIE刻蚀机：手动加载RIE系统长达200毫米晶圆真空负荷锁。它由PC控制，软件在Linux下运行。它采用CH4/H2和氯化反应气体为III-V和II-VI族化合物半导体，如GaAs、InP、InGaAsP，硫化腐蚀，碲化镉和碲镉汞。
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工艺设备：真空镀膜机；离子束刻蚀机，ICP刻蚀机，IBE刻蚀机；等
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  • 原子力显微镜,摩擦磨损,海思创纳米力学
  • 秀浦路800号50号楼1502室

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