承德卡尔蔡司场发射显微镜

您可以为所有的蔡司Xradia Versa 仪器选配原位接口套件，包括机械集成套件、坚固的布线导槽和其它设施（馈入装置），以及基于测试规程的软件，它能够简化蔡司“定位- 和- 扫描”（Scout-and-Scan）用户界面中的操作。在蔡司Xradia Versa 上体验原位装置高水平的稳定性、灵活性和集成控制，得益于其光学架构设计，在变化的环境条件下不会牺牲分辨率。

处理蔡司显微镜所采集的数据
• 读写各种不同格式，包括.txm 和.czi
• 自动处理和应用宏，以实现自动化工作
流程
• 由蔡司使用
通过可选模块扩展软件
• 用于分割的深度学习
• 实现的指标的骨分析

现存技术瓶颈
针尖制备成品率：单晶针尖合格率不足30%
热场致发射干扰：电流稳定性在10^-3 A水平波动约5%
样品兼容性：于导电材料分析

电子源开发
单晶钨场发射体的亮度比热阴10^5倍，应用于高分辨率电子显微镜（如JEOL JEM-F200）中，束斑直径<1 nm。

核心组件
真空系统：采用溅射离子泵与钛升华泵组合，确保分析环境
针尖操纵装置：六轴精密位移台（精度达0.1 μm）
探测系统：微通道板（MCP）配合磷光屏，电子增益可达10^6倍
高压电源：波纹系数<0.01%的直流高压发生器

场致电子发射的物理机制
当金属表面施加高强度电场（通常>10^7 V/cm）时，量子隧穿效应导致电子穿过表面势垒向外发射。该现象可用Fowler-Nordheim方程描述：
其中J为电流密度，E为电场强度，φ为功函数，β为场增强因子。场发射电流对曲率半径极为敏感，纳米级针尖可产生局部场增强效应。